半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
的项目后台
此品牌为于长四角地段某中国级半导体行业第三产业四园,工业企业一般生产加工8寸大和12寸大晶圆,东风日产量可达2万片。现在产能利用率大幅提升,增加了的化工废水整理体统已不可能具备节能环保标准要求,急需要提升等级改良。品牌总创业约1一千万元,设计整理业务能力为300吨/日,于2022年建设完工投入运营。
工业废水化学物质及从何而来
该商家晶圆片区多种工序发生的废液主耍其中包含之下物质:
分割进程中运用的磨细液使用量物,大部分含量为二钝化硅小粒、表面上吸附性剂和有机化学放入剂
晶圆漆层冲洗形成的含氟废水处理,氟铁离子酸度在80-120mg/L
几瓶天价属阴离子如铜、镍等,由来于打磨机器受到磨损
有机物稀释剂杂质,涉及异丙醇、二甲苯等
pH值浮动较多,一般在4-10相互
除理新工艺程序
真对污废水 的特点,定制适用"有机化学预治疗+生物化治疗+深层治疗"的搭配组合工艺设计:
的调节池
:均匀水质标准发电量,如何设置pH线评估和电脑自动投加设计
沥青混凝土水解
:添加PAC和PAM,洗去飘浮物和胶体溶液化学物质
气浮机组
:选择溶气气浮方法进的一步避开这些细微科粒和的部分有机酸物
生化学治疗
:用到MBR膜动物作用器,淤泥浓硫酸浓度形成在8000-10000mg/L
深度.正确处理
:活性酶类炭吸附性+ro反渗透性和制作工艺,狠抓有水出达到标准
工业废水补救
:板框板框压滤机脱水情况,淤泥水分含量率降低60%之下
处置作用
软件稳定性高使用后,出水出水水质监测压根提高《电商制造业水水固体废弃物排放量标淮标淮》(GB39731-2020)特别排放量标淮卫生防护距离的标准:
COD<30mg/L
氟阴离子<5mg/L
悬停物<10mg/L
血本属相关招生指标均少于标准值
工程每季度可变少危害物减排量约COD 32吨、氟化物8.5吨,回收利用水率达成75%综上所述,为中小型企业节约使用电费其他支出约130万元/年。